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有一個趨勢非常明顯……流片變得越來越困難,需要的時間也越來越長。作為日益壯大的創(chuàng)新性早期設計驗證技術(shù)套件的一部分,Calibre nmLVS-Recon 工具使設計團隊能夠快速檢查 “存在問題” 和不成熟的設計,以便更快、更早地發(fā)現(xiàn)并修復具有重大影響的電路錯誤,從而在總體上縮短流片排程和上市時間。
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