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多重曝光簡(jiǎn)介
[摘要]

利用多重曝光可在當(dāng)今最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)上獲得精確的光刻分辨率。了解此技術(shù)的基礎(chǔ)知識(shí)，以及它對(duì)您的IC設(shè)計(jì)和驗(yàn)證任務(wù)與職責(zé)帶來的影響。
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Siemens Digital Industries Software簡(jiǎn)介
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件致力于推動(dòng)數(shù)字化企業(yè)轉(zhuǎn)型，實(shí)現(xiàn)滿足未來需求的工程、制造和電子設(shè)計(jì)。西門子的Xcelerator 解決方案組合可幫助各類規(guī)模的企業(yè)創(chuàng)建并充分利用數(shù)字雙胞胎，為機(jī)構(gòu)帶來全新的洞察、機(jī)遇和自動(dòng)化水平，促進(jìn)創(chuàng)新。

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