使用 Calibre Auto-Waivers 的物理 IP 管理
資源大?。?36.2KB
[摘要] 沒有內(nèi)置于物理驗(yàn)證流程的可重復(fù)流程,物理 IP 的設(shè)計規(guī)則豁免可能很難進(jìn)行管理。通過芯片流片,在 IP 開發(fā)階段的物理驗(yàn)證流程中嵌入 Calibre Auto-Waivers 自動豁免方法,可確?;砻獾囊恢滦?,縮短調(diào)試時間,以及提供永
兩全其美 – 無折衷的先進(jìn)工藝寄生參數(shù)提取方法
資源大?。?23.32KB
[摘要] 納米設(shè)計的復(fù)雜性日益增加,加上先進(jìn)制造工藝產(chǎn)生的新影響,給努力實(shí)現(xiàn)流片的設(shè)計工程師構(gòu)成了雙重威脅。要同時提供 FinFET 等詳細(xì) 3D 結(jié)構(gòu)必不可少的寄生參數(shù)提取精度,以及實(shí)現(xiàn)全芯片設(shè)計(在多個不同布線層上具有成百上千萬個網(wǎng)絡(luò))快速
十種常見的器件噪聲分析錯誤
資源大?。?.18MB
[摘要] 器件噪聲的影響在納米級 CMOS 工藝中極為關(guān)鍵,因?yàn)樗诟旧现萍s了許多 45 nm 及以下工藝電路的性能。當(dāng)給定正確的工具,器件噪聲分析 (DNA) 將是一個相當(dāng)簡單的過程,并且仿真結(jié)果與硅測量結(jié)果只有 1 - 2 dB 的誤差。
使用 Calibre Pattern Matching 的復(fù)雜器件驗(yàn)證
資源大?。?44.69KB
[摘要] 在版圖驗(yàn)證過程中,由于版圖放大、層衍生或數(shù)據(jù)分塊的影響,由精確多段多邊形組成的曲線和其他形狀可能會發(fā)生吸附。使用 Calibre Pattern Matching 驗(yàn)證這些復(fù)雜器件版圖可簡化實(shí)施要求和下游支持工作。
加快移動產(chǎn)品上市步伐
資源大?。?.08MB
[摘要] 計算機(jī)電子展 (CES) 依舊讓人驚嘆不已。展會中展出了 IoT 產(chǎn)品、可穿戴設(shè)備、二合一移動電腦和發(fā)展飛速的智能手機(jī),其中智能手機(jī)仍占據(jù)著移動市場最大的份額。 這些產(chǎn)品的核心部件是一個應(yīng)用程序處理器單元 (APU),典型示例
Siemens Digital Industries Software簡介
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件致力于推動數(shù)字化企業(yè)轉(zhuǎn)型,實(shí)現(xiàn)滿足未來需求的工程、制造和電子設(shè)計。西門子的Xcelerator 解決方案組合可幫助各類規(guī)模的企業(yè)創(chuàng)建并充分利用數(shù)字雙胞胎,為機(jī)構(gòu)帶來全新的洞察、機(jī)遇和自動化水平,促進(jìn)創(chuàng)新。

欲了解有關(guān)西門子數(shù)字化工業(yè)軟件的更多詳情,敬請訪問:

https://www.plm.automation.siemens.com/global/zh/industries/electronics-semiconductors/