光刻

• 攻克關(guān)鍵技術(shù) 東方晶源ILT技術(shù)劍指先進(jìn)制程
  

  計(jì)算光刻作為現(xiàn)代芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心技術(shù)之一，其發(fā)展經(jīng)歷了從規(guī)則導(dǎo)向到模型驅(qū)動(dòng)的轉(zhuǎn)變。然而，隨著制程邁向7nm乃至5nm節(jié)點(diǎn)，傳統(tǒng)方法因規(guī)則局限、優(yōu)化自由度不足等制約，難以滿足復(fù)雜芯片設(shè)計(jì)的高要求。在此背景下，反向光刻技術(shù)（ILT）以其獨(dú)特的優(yōu)化思路應(yīng)運(yùn)而生。 ILT即從目標(biāo)芯片圖案出發(fā)，逆向推導(dǎo)獲得最優(yōu)化掩模圖案，極大地提升優(yōu)化的靈活性和精準(zhǔn)度，更能滿足先進(jìn)制程對(duì)圖形精度的苛刻需求。因此，在探

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  09/23 07:09

  人工智能 芯片
• SPIE國(guó)際會(huì)議上的中國(guó)面孔 貢獻(xiàn)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體檢測(cè)量測(cè)“智慧”
  

  日前，第49屆SPIE Advanced Lithography + Patterning會(huì)議在美國(guó)加州圣何塞拉開帷幕。作為半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)于光刻和圖形成型技術(shù)最具影響力的國(guó)際會(huì)議，本屆大會(huì)吸引了來自全球各地的專家、學(xué)者，帶來近600篇論文，涉及極紫外光刻、新型圖形技術(shù)、微光刻的計(jì)量、檢驗(yàn)和過程控制等六大領(lǐng)域。 SPIE（International Society for Optical Engine

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  03/07 07:16

  半導(dǎo)體行業(yè) 國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體
• 深入光刻領(lǐng)域：揭秘芯片制造行業(yè)的職業(yè)新機(jī)會(huì)
  

  多年以后，當(dāng)每一個(gè)ICer站在職業(yè)生涯的路口，將會(huì)想起2023這一載入半導(dǎo)體行業(yè)史冊(cè)的一年?！安脝T”、“降薪”、“解散”成了今年的主旋律，而過去幾年隨著芯片設(shè)計(jì)從業(yè)者的快速增加，內(nèi)卷似乎也越來越嚴(yán)重。當(dāng)芯片行業(yè)的種種亂象接踵而至?xí)r，我們也應(yīng)該仔細(xì)審視，到底什么才是這個(gè)行業(yè)真正需要的？到底什么才是有價(jià)值的？IC設(shè)計(jì)是不是畢業(yè)生唯一的出路？想逃離內(nèi)卷，我還能在芯片行業(yè)挖掘到哪些新的職業(yè)機(jī)會(huì)？

  溫戈

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  2023/12/24

  芯片行業(yè) 芯片制造
• 什么是電子增材制造(EAMP? )？｜一種得益于新材料的加成法電子制造工藝
  

  現(xiàn)代電子制造生產(chǎn)工藝，主要分為：加成法、減成法與半加成法，目前以減成法為主。減成法工藝采用減材制造原理，通過光刻、顯影、刻蝕等技術(shù)將不需要的材料去除，形成功能材料圖形結(jié)構(gòu)，這種工藝已經(jīng)比較成熟。然而，隨著環(huán)保和成本等因素的重視，減成法也逐漸暴露出一些不足之處，比如污染排放和原材料損失等問題。相較之下，以增材制造技術(shù)為核心的加成法工藝將有望改善這些問題。 增材制造是一種快速成型技術(shù)，通過材料逐步堆積

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  2023/07/03

  電子制造 光刻
• ASML中國(guó)宣布2023年“光之宇宙”年度人才計(jì)劃
  今天，半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商阿斯麥（ASML）在上海舉辦了人才戰(zhàn)略分享活動(dòng)，并公布其2023年“光之宇宙”年度人才計(jì)劃。在半導(dǎo)體行業(yè)人才緊缺的大環(huán)境下，ASML中國(guó)區(qū)人力資源總監(jiān)王洪瑞在分享會(huì)上重申ASML對(duì)人才始終如一的重視，以及對(duì)人才建設(shè)的持續(xù)投入。 根據(jù)4月份發(fā)布的2023年第一季度財(cái)報(bào)，ASML在該季度實(shí)現(xiàn)凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤(rùn)達(dá)20億歐元。ASML預(yù)計(jì)2023年仍

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  2023/05/24

  半導(dǎo)體行業(yè) ASML
• 做了三年核酸，你知道核酸檢測(cè)用的“芯片”嗎？
  

  每天起床第一句，先去樓下做核酸。 核酸檢測(cè)，可能是近兩年來我們參與頻率最高的集體活動(dòng)。疫情期間，我們除了每天要在通勤路上消耗掉寶貴的時(shí)光，偶爾還要在核酸檢測(cè)點(diǎn)前排出一條長(zhǎng)龍。即使做完了核酸，等待結(jié)果的過程也讓我們憑空多了份焦慮。慢，成為了核酸檢測(cè)摘不掉的標(biāo)簽；等，也成為了我們的生活常態(tài)。 核酸檢測(cè) ?圖源：頭條蘇州 不過進(jìn)入12月以來，全國(guó)疫情防控力度逐漸降低，核酸檢測(cè)這項(xiàng)活動(dòng)在我們生活動(dòng)占的比例

  劉浩然

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  2022/12/14

  與非觀察 mems
• 揭秘半導(dǎo)體制造全流程（上篇）
  當(dāng)聽到“半導(dǎo)體”這個(gè)詞時(shí)，你會(huì)想到什么？它聽起來復(fù)雜且遙遠(yuǎn)，但其實(shí)已經(jīng)滲透到我們生活的各個(gè)方面：從智能手機(jī)、筆記本電腦、信用卡到地鐵，我們?nèi)粘Ｉ钏蕾嚨母鞣N物品都用到了半導(dǎo)體。

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  2021/07/20

  半導(dǎo)體 泛林集團(tuán)
• 集成電路新政解讀
  其中深意不言而喻，集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)上升到國(guó)家核心戰(zhàn)略層面，尤其是在全球動(dòng)蕩的國(guó)際關(guān)系下，產(chǎn)業(yè)全面國(guó)產(chǎn)化已經(jīng)被提上日程。

  AI芯天下

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  2020/08/14

  電路 集成電路
• 淺談瓦森納安排的修訂之計(jì)算光刻軟件
  光刻（lithography）是集成電路制造中最重要的步驟，是目前最主要的在晶圓上制作亞微米和納米精度圖形的技術(shù)。

  趙元闖

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  2020/03/09

  集成電路 ASML
• 一文看懂 | 芯片是怎么來的？
  從無到有，從方案到工藝圖，從一粒沙子到一顆芯片，都經(jīng)歷了些什么？跟著與非網(wǎng)來了解一下吧。

  夏珍

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  2020/01/23

  芯片 趣科技
• ESOL 研發(fā)新能 EUV 光刻，韓國(guó)有望擺脫對(duì)日依賴？
  與非網(wǎng)9月17日訊，今年8月8日，日本解禁一批對(duì)韓出口半導(dǎo)體材料，其中包括對(duì)7nm先進(jìn)制程至關(guān)重要的EUV光刻膠。韓國(guó)的半導(dǎo)體遭受到了重?fù)?，因?yàn)轫n國(guó)半導(dǎo)體材料有80%左右是從日本進(jìn)口的，而像三星、SK海力士據(jù)說庫(kù)存只有堅(jiān)持2、3個(gè)月。

  與非網(wǎng)記者

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  2019/09/17

  半導(dǎo)體 三星電子
• EUV、光刻膠、計(jì)算光刻等先進(jìn)光刻技術(shù)的桎梏和突破
  20世紀(jì)以來，在光學(xué)光刻技術(shù)努力突破分辨率“極限”的同時(shí)，國(guó)內(nèi)外相關(guān)企業(yè)、機(jī)構(gòu)都正在積極研究，包括EUV光刻技術(shù)，電子束光刻技術(shù)，計(jì)算光刻等內(nèi)容方向。

  李晨光

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  2018/11/08

  光刻機(jī) 光刻膠
• 中科大與中芯國(guó)際合作，要在光刻領(lǐng)域搞出啥事？
  近日，中國(guó)科學(xué)院大學(xué)微電子學(xué)院與中芯國(guó)際集成電路制造有限公司在產(chǎn)學(xué)研合作中取得新進(jìn)展，成功在光刻工藝模塊中建立了極坐標(biāo)系下規(guī)避顯影缺陷的物理模型。

  與非網(wǎng)記者

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  1評(píng)論

  2018/06/07

  中芯國(guó)際 光刻
• 庫(kù)力索法未來的市場(chǎng)與機(jī)遇，存儲(chǔ)器和汽車電子雙管齊下
  庫(kù)力索法首席法務(wù)黃曉麟表示：“庫(kù)力索法蘇州工廠是公司在全球最大的工廠，去年貢獻(xiàn)了整體營(yíng)收的50%。目前來看，中國(guó)是世界上IC產(chǎn)業(yè)發(fā)展最快的國(guó)家，這就是為什么我們要在蘇州建立一個(gè)展示中心，以促進(jìn)我們和客戶之間更便利的合作。”

  張亞

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  2018/03/26

  存儲(chǔ)器 SMT
• e世繪︱一份臺(tái)積電的預(yù)測(cè)，讓這些半導(dǎo)體設(shè)備廠商的2017年充滿懸念？
  臺(tái)積電是全球規(guī)模最大的純代工廠，最近降低了公司2017年代工業(yè)務(wù)的營(yíng)收預(yù)期。臺(tái)積電目前正在致力于實(shí)現(xiàn)到2018年全面使用EUV光刻技術(shù)生產(chǎn)7nm芯片，這將對(duì)設(shè)備廠商在2017年的沉積和蝕刻設(shè)備銷售造成明顯的影響。

  與非網(wǎng)記者

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  2017/04/20

  與非觀察 臺(tái)積電
• 5nm工藝到底有多少實(shí)現(xiàn)的可能，實(shí)現(xiàn)了又有什么意義
  工藝路徑應(yīng)該怎么繼續(xù)往下走呢？代工廠可以把FinFET晶體管繼續(xù)做到7nm，再往下的5nm就懸了，也許永遠(yuǎn)做不到5nm也未可知。確實(shí)如此，5nm節(jié)點(diǎn)前面橫亙著若干技術(shù)和經(jīng)濟(jì)上的挑戰(zhàn)，而且即使能夠?qū)崿F(xiàn)5nm，它也會(huì)相當(dāng)昂貴，只有少數(shù)公司能夠用得起，這將把5nm芯片限制在很窄的應(yīng)用范圍內(nèi)。

  與非網(wǎng)記者

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  1評(píng)論

  2016/02/01

  芯片 晶圓
• 光刻
  光刻是一種關(guān)鍵的微制造技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、集成電路制造、光學(xué)元件制備等領(lǐng)域。通過利用光照、顯影和蝕刻等步驟，在光敏性材料上形成復(fù)雜的圖案和結(jié)構(gòu)。

  eefocus_3901714

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  10/28 16:01

  光刻

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