加入星計劃,您可以享受以下權(quán)益:

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴(kuò)散
  • 作品版權(quán)保護(hù)
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長期合作伙伴
立即加入

RDL

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點資訊討論
  • 一文讀懂先進(jìn)封裝的四大要素?TSV、Bump、RDL、wafer
    一文讀懂先進(jìn)封裝的四大要素?TSV、Bump、RDL、wafer
    先進(jìn)封裝的四大要素——TSV(硅通孔)、Bump(凸點)、RDL(重布線層)、Wafer(晶圓)——在現(xiàn)代半導(dǎo)體封裝中扮演了核心角色。它們在封裝工藝中各自承擔(dān)的功能,從不同維度推動了芯片小型化、集成度和性能的提升。
  • 先進(jìn)封裝中的RDL-first工藝
    先進(jìn)封裝中的RDL-first工藝
    什么是RDL-first工藝?RDL(Redistribution Layer,重布線層)是半導(dǎo)體封裝中的一個關(guān)鍵部分。它的作用類似于城市中的交通網(wǎng)絡(luò),將信號從一個地方重新分配到另一個地方,使得芯片中的各個部分能夠高效地通信。
  • 全球板級封裝部署加速,TGV技術(shù)值得關(guān)注
    全球板級封裝部署加速,TGV技術(shù)值得關(guān)注
    根據(jù)Yole 2022年12月發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,全球扇出型封裝產(chǎn)值預(yù)計將在2028年達(dá)到38億美元, 2022-2028年復(fù)合年增長率為12.5%。其中,F(xiàn)OPLP(扇出型板級封裝)占據(jù)了整個扇出型封裝市場約5-10%的市場,并且未來幾年還將不斷增長。
    8877
    03/29 22:43
  • 先進(jìn)封裝技術(shù)之爭 | RDL線寬線距將破亞微米,賦能扇出封裝高效能低成本集成
    先進(jìn)封裝技術(shù)之爭 | RDL線寬線距將破亞微米,賦能扇出封裝高效能低成本集成
    隨著先進(jìn)封裝的深入進(jìn)展,重新分布層(RDL)技術(shù)獲得了巨大的關(guān)注。這種革命性的封裝技術(shù)改變了我們封裝 IC 的方式。RDL 技術(shù)是先進(jìn)封裝異質(zhì)集成的基礎(chǔ),廣泛應(yīng)用扇出封裝、扇出基板上芯片、扇出層疊封裝、硅光子學(xué)和 2.5D/3D 集成方法,實現(xiàn)了更小、更快和更高效的芯片設(shè)計。OSAT、 IDM和代工廠在這條道上的競爭日益激烈。如今RDL L/S?擴(kuò)展到最先進(jìn) 2μm及以下。未來三年將進(jìn)入亞微米,賦能扇出封裝更高效能集成。本文為各位看官匯報了相關(guān)趨勢展望與企業(yè)技術(shù)進(jìn)展。

正在努力加載...