加入星計劃,您可以享受以下權(quán)益:

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴散
  • 作品版權(quán)保護
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長期合作伙伴
立即加入

納米壓印光刻

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點資訊討論

NIL(Nano-Imprint Lithography),壓印本質(zhì)上從本質(zhì)上是一種印刷復(fù)制技術(shù),是將模板進行大量復(fù)制的技術(shù)。壓印技術(shù)加工技術(shù)根據(jù)圖形尺寸的大小可分為納米壓印技術(shù)和模壓技術(shù)。最初提出的納米壓印技術(shù)為熱壓印納米技術(shù)和室溫納米壓印技術(shù)。

NIL(Nano-Imprint Lithography),壓印本質(zhì)上從本質(zhì)上是一種印刷復(fù)制技術(shù),是將模板進行大量復(fù)制的技術(shù)。壓印技術(shù)加工技術(shù)根據(jù)圖形尺寸的大小可分為納米壓印技術(shù)和模壓技術(shù)。最初提出的納米壓印技術(shù)為熱壓印納米技術(shù)和室溫納米壓印技術(shù)。 收起

查看更多
  • 光刻技術(shù),有了新選擇
    光刻技術(shù),有了新選擇
    光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。
  • 佳能豬突猛進,納米壓印取得重要進展
    佳能豬突猛進,納米壓印取得重要進展
    日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備,該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移。佳能據(jù)介紹,佳能的納米壓印光刻(Nano-Imprint Lithography,NIL)技術(shù)可實現(xiàn)最小線寬14nm的圖案化,相當于生產(chǎn)目前最先進的邏輯半導(dǎo)體所需的5nm節(jié)點。此外,隨著掩模技術(shù)的進一步改進,NIL有望實現(xiàn)最小線寬為10nm的電路圖案,相當于2nm節(jié)點。NanoimprintLithography(NIL),是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計并制作在模板上的微小圖形,通過壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。納米壓印的分辨率由所用印模板圖形的大小決定,物理上沒有光刻中的衍射限制,納米壓印技術(shù)可以實現(xiàn)納米級線寬的圖形。