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隨著我國(guó)平板顯示、光伏以及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國(guó)產(chǎn)濕制程裝備的需求日益增長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)地方政府的考察與認(rèn)可，2020年晶洲裝備投資新建濕制程智能裝備生產(chǎn)基地。經(jīng)過(guò)400多天的施工，目前該項(xiàng)目已順利通過(guò)竣工驗(yàn)收。
晶洲裝備自2011年成立以來(lái)，一直專注于平板顯示、光伏、半導(dǎo)體領(lǐng)域的高精密濕制程裝備的生產(chǎn)及研發(fā)，產(chǎn)品主要包括高精密清洗、濕法刻蝕、光阻剝離、顯影等高端濕制程設(shè)備，至2021年6月，平板顯示工藝制程設(shè)備累積交付逾200臺(tái)/套；已交付量產(chǎn)設(shè)備對(duì)應(yīng)基板尺寸涵蓋G2.5~G8.6。
隨著新建濕制程智能裝備生產(chǎn)基地的交付使用，制造車間可對(duì)應(yīng)G10.5、G11超大尺寸基板裝備制造，機(jī)型可對(duì)應(yīng)包括單層I Type、雙層I Type、U Type等；實(shí)現(xiàn)平板顯示全系列基板尺寸裝備全覆蓋。
晶洲裝備本次投產(chǎn)的濕制程智能裝備生產(chǎn)基地位于江蘇省常熟市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)辛莊工業(yè)園，占地40,000平方米，具備年度120臺(tái)以上中大世代設(shè)備的交付能力。
以晶洲裝備2018年獲得江蘇省首臺(tái)(套)重大裝備的G6濕法刻蝕機(jī)為例，單臺(tái)濕法刻蝕機(jī)寬4米，高4.5米，長(zhǎng)達(dá)30米；120臺(tái)中大世代設(shè)備可以擺滿兩個(gè)足球場(chǎng)。
這樣一個(gè)體積龐大的大型裝備，潔凈度要求卻非常高，設(shè)備內(nèi)部潔凈度要求達(dá)到Class10，即每立方米空間直徑大于0.5微米小于5微米的顆粒物不能超過(guò)10個(gè)，而人體細(xì)胞的平均直徑在10-20微米，相當(dāng)于每立方米空間不能有超過(guò)10個(gè)細(xì)胞大小的顆粒物。
為了達(dá)到這一要求，設(shè)備整機(jī)裝配需要在無(wú)塵車間進(jìn)行；面向平板顯示工藝制程設(shè)備組裝均需在無(wú)塵室進(jìn)行，為了保障裝配精度及部品潔凈度，新建了兩個(gè)恒溫恒濕加工車間。車間局部區(qū)域環(huán)境等級(jí)達(dá)Class100，具備高精密半導(dǎo)體設(shè)備的組裝及調(diào)試條件。
晶洲裝備在業(yè)務(wù)快速發(fā)展中，面對(duì)良好的市場(chǎng)環(huán)境、源源不斷的訂單，公司的研發(fā)業(yè)務(wù)、產(chǎn)品質(zhì)量與交貨周期，面臨巨大的挑戰(zhàn)與瓶頸。為提升產(chǎn)品的“研發(fā)-工藝-生產(chǎn)”效率，加快市場(chǎng)響應(yīng)速度，提高訂單交付質(zhì)量，加強(qiáng)研發(fā)業(yè)務(wù)管理水平，背靠華為云（常熟）工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)基地及其生態(tài)合作伙伴的技術(shù)支撐，晶洲裝備選擇與國(guó)內(nèi)優(yōu)秀CAD/PLM軟件企業(yè)CAXA進(jìn)行戰(zhàn)略合作，借助CAXA在行業(yè)的最佳實(shí)踐與豐富經(jīng)驗(yàn)，幫助晶洲裝備打造統(tǒng)一、規(guī)范的研發(fā)管理平臺(tái)。
