光掩膜板

• EUV掩膜版清洗技術挑戰(zhàn)及解決方案
  

  EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導體制造工藝中關鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關重要的角色。由于EUV技術的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。

  老虎說芯

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  12/26 08:38

  EUV 光掩膜板
• 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
  

  薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。

  中國電子報

  1012

  12/06 10:30

  光掩膜板
• 光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
  

  光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關鍵的元件之一。作為光刻技術的核心工具，光罩將設計好的電路圖案轉移到晶圓表面，其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。

  老虎說芯

  3118

  11/29 11:20

  光掩膜板

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