刻蝕機(jī)

• 幾種常見的刻蝕機(jī)臺(tái)，包括LAM、AMAT、TEL、MATTSON和AMEC等
  

  在晶圓制造過程中，刻蝕工藝是至關(guān)重要的，它不僅影響芯片的功能，還決定了工藝的精度和生產(chǎn)效率。LAM Research（簡(jiǎn)稱LAM）是刻蝕機(jī)領(lǐng)域的領(lǐng)先廠商之一，尤其在干法刻蝕方面具有很強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)力。LAM的刻蝕機(jī)臺(tái)通常采用等離子體刻蝕技術(shù)，其特點(diǎn)是高效的刻蝕速率和良好的工藝控制能力。

  老虎說芯

  1000

  12/14 10:25

  刻蝕設(shè)備 刻蝕機(jī)
• 5nm已量產(chǎn)，3nm還會(huì)遠(yuǎn)嗎？重要性比肩光刻機(jī)的刻蝕設(shè)備——中微公司
  

  晶圓制造設(shè)備從類別上講可以分為刻蝕、光刻、薄膜沉積、檢測(cè)、涂膠顯影等十多類，其合計(jì)投資總額通常占整個(gè)晶圓廠投資總額的 75%左右，其中刻蝕設(shè)備、光刻設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備是集成電路前道生產(chǎn)工藝中最重要的三類設(shè)備。 根據(jù)Gartner統(tǒng)計(jì)的數(shù)據(jù)，2013年至2023年，半導(dǎo)體前道設(shè)備中，干法刻蝕設(shè)備市場(chǎng)年均增速超過15%，化學(xué)薄膜設(shè)備市場(chǎng)年均增速超過14%，這兩類設(shè)備增速遠(yuǎn)高于其他種類的設(shè)備。 圖|20

  王兵

  8867

  11/12 10:37

  與非研究院 CVD

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