High-NA

• 深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)

  各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。

  AI芯天下

  1585

  2024/11/28

  光刻機(jī) EUV光刻機(jī)

  
• 近500億元！EUV光刻機(jī)巨頭掙翻了

  7月17日，全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績(jī)。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤(rùn)為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預(yù)訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預(yù)訂額。不過相比去年同期的營(yíng)收69億歐元、凈利潤(rùn)19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績(jī)不及當(dāng)時(shí)水平。

  全球半導(dǎo)體觀察

  2114

  2024/07/19

  半導(dǎo)體設(shè)備 ASML

  
• High-NA EUV光刻機(jī)入場(chǎng)，究竟有多強(qiáng)？

  光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個(gè)熱門話題。從早期的深紫外光刻機(jī)（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)；再到后來的極紫外光刻機(jī)（EUV）以其獨(dú)特的極紫外光源和更短的波長(zhǎng)，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機(jī)（High-NA）正式登上歷史舞臺(tái)，進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  4305

  2024/03/26

  光刻機(jī) EUV光刻機(jī)

  

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