500億人民幣！收購光刻膠巨頭JSR！

01、JIC收購光刻膠巨頭JSR

6月25日消息，據(jù)日經(jīng)新聞報道，日本半導體設備制造商 JSR 昨日表示，該公司正在考慮一項由國家支持的日本產(chǎn)業(yè)革新投資機構（JIC）提出的收購提議，此舉對 JSR 和日本的半導體戰(zhàn)略都將產(chǎn)生重大影響。

報道稱，JIC 正在就以約 1 萬億日元（約502億元人民幣）的價格收購 JSR 進行談判，而 JSR 表示尚未作出任何決定，但董事會將在周一討論此事。JIC 計劃最早在今年與國內(nèi)外反壟斷機構達成協(xié)議后提出要約收購，如果收購成功，JSR 最快將于 2024 年從東京證券交易所退市。

02、光刻膠領跑者JSR

JSR（捷時雅）成立于1979年，自1979年4月銷售光刻膠以來，JSR以滿足半導體行業(yè)需求為宗旨，40多年來不斷向全球客戶提供光刻材料、CMP材料和封裝材料，通過在自有設備上模擬重現(xiàn)客戶的半導體工藝，快速有針對性的推薦相應材料及制造工藝條件。

JSR產(chǎn)品種類豐富，涵蓋從簽到工藝到后道工藝相關離子注入、柵極和配線工藝圖案的光刻膠，用于CMP工藝的研磨液和清洗劑，以及用于封裝各個工藝流程的臨時鍵合材料、厚膜加工用光刻膠和感光性絕緣膜材料。

03、光刻膠市場由美日壟斷

光刻技術是利用光化學反應原理和刻蝕方法將掩模版上的圖案傳遞到晶圓的工藝技術，原理起源于印刷技術中的照相制版。光刻膠，是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于顯示面板、印刷電路板、集成電路三大領域。

半導體光刻膠根據(jù)波長可分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）、EUV 光刻膠（13.5nm）等，分辨率逐步提升。曝光波長越短，光刻膠技術水平越高，適用的集成電路制程也更加先進。目前全球高端半導體光刻膠市場主要被日本和美國公司壟斷，國產(chǎn)替代率較低。

SEMI數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導體光刻膠市場約為24.71億美元，同比增速19.49%。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)披露，2020年全球半導體光刻膠市場ArFi占比最大（38%），其次為KrF（34%）、G/I線（16%）、ArF（10% ），EUV占比最?。?%）。

目前全球高端半導體光刻膠市場主要被日本和美國公司壟斷，日企占據(jù)80%市場，處于絕對領先地位。主流廠商包括日本的東京應化（27%）、JSR（13%）、富士、信越化學、住友化學，以及美國杜邦（17%）、歐洲AZEM和韓國東進世美肯等。

04、結語

光刻膠生產(chǎn)工藝復雜，技術壁壘高，其研發(fā)和量產(chǎn)需要企業(yè)長期的技術積累及研發(fā)投入。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省4月曾表示，其目標是到2030年將日本半導體銷售額增加兩倍，達到15萬億日元，公布了加強日本國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)等方面的新戰(zhàn)略。此次日本政府為收購JIC打算新成立一家注冊資本達5000億日元的新公司，而瑞穗金融集團旗下的瑞穗銀行將提供 4000 億日元融資，下如此血本，恐怕也是為了這個戰(zhàn)略計劃。