傳荷蘭補(bǔ)漏洞：已導(dǎo)入產(chǎn)線的DUV設(shè)備，維修須政府許可

荷蘭繼上周五（6月30日）頒布半導(dǎo)體設(shè)備管制新規(guī)——《先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備法規(guī)》（以下簡稱“荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備法”），今天再被曝出修補(bǔ)管制漏洞：將已裝機(jī)、未交貨的高端DUV設(shè)備列入管制，設(shè)備后期維護(hù)需要向荷蘭政府申請?jiān)S可。

荷蘭此舉是美國2022年頒布的“107新規(guī)”的延續(xù)。自此，美日荷三大半導(dǎo)體設(shè)備國均已正式宣告其半導(dǎo)體設(shè)備管制法規(guī)，三國的“半導(dǎo)體先進(jìn)設(shè)備圍堵”聯(lián)盟正式成局。關(guān)于美日的半導(dǎo)體出口限制政策，可參照芯師爺前文《國產(chǎn)率僅15%！我們要惡補(bǔ)半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)了》。

今天，沿著荷蘭最新傳出的修補(bǔ)管制漏洞，我們來詳細(xì)看看荷蘭政府正式宣告的半導(dǎo)體設(shè)備法規(guī)。

7nm及以下制程光刻機(jī)出口受限

荷蘭政府發(fā)布的荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備法，據(jù)政府宣告是針對先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備進(jìn)行額外出口管制，管制措施將在9月1日生效，屆時，特定先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口須向荷蘭對外貿(mào)易與發(fā)展合作部申請?jiān)S可，得到授權(quán)后才能出口。

據(jù)該法規(guī)，滿足以下條件的光刻機(jī)將被荷蘭政府納入出口管制范圍：

1、光源波長小于 193nm；

2、光源波長大于等于193nm，且 a.分辨率小于等于 45nm；

3、b.套刻精度小于 1.5nm。

荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公司（ASML）補(bǔ)充聲明稱，這些新的出口管制條例針對對象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非部分媒體報道的所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。

結(jié)合兩方口徑，可以確定本次“荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備法”針對的是2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。

圖：ASML浸潤式DUV系統(tǒng)系列? ?圖源：ASML官網(wǎng)

據(jù)ASML官網(wǎng)展示，其浸潤式DUV系統(tǒng)系列共有TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT：2000i及TWINSCAN NXT:1980Di三款產(chǎn)品，其中2050i是2000i光刻機(jī)更先進(jìn)的型號，1980Di則為2000i前一代產(chǎn)品。

圖源：ASML官網(wǎng)

產(chǎn)品頁面介紹，2000i 是一款高生產(chǎn)率、雙級浸沒式光刻工具，專為在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)批量生產(chǎn)300毫米（即12英寸）晶圓而設(shè)計(jì)，可生產(chǎn)小于38nm的芯片產(chǎn)品。頁面特征數(shù)據(jù)顯示，2000i專為與EUV混合使用而設(shè)計(jì)，可為高級邏輯和DRAM節(jié)點(diǎn)的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配。

從產(chǎn)業(yè)介紹的資料來看目前1980Di尚可不需要“許可”直接購買，而2050i和2000i要經(jīng)過荷蘭政府審批方可出口至別國。

公開資料顯示，2000i與2018年8月正式出貨，可用于7nm/5nm DUV工藝。這意味著，2000i及其后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)均面向7nm及以下先進(jìn)制程工藝的生產(chǎn)。

圖源：ASML官網(wǎng)

至于目前仍可自由購買的1980Di，招商電子相關(guān)報告指出：參考de ?Graaf、Roelof等于2016年發(fā)表的SPIE會議論文，1980Di可適用于10-16nm制程，通過多重曝光可實(shí)現(xiàn)7nm制程的光刻。根據(jù)ASML官網(wǎng)，1980Di最大分辨率可實(shí)現(xiàn)38nm，小于荷蘭政府規(guī)定的45nm，但其DCO指標(biāo)為最大1.6nm，不滿足法規(guī)中小于等于1.5nm的要求，因此該設(shè)備目前仍未受限。

需要注意的是，雖然1980Di理論上可以實(shí)現(xiàn)7nm制程光刻，但在實(shí)際應(yīng)用中，晶圓產(chǎn)線一般不將其用于生產(chǎn)14nm以下制程工藝芯片。個中緣由是1980Di應(yīng)用于14nm以下產(chǎn)線時，步驟更為復(fù)雜，導(dǎo)致良率低，生產(chǎn)成本更高，沒有市場競爭力。

基于以上分析，本次“荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備法”和ASML在今年3月的聲明并無差異。ASML 在2023年3月8日的 聲明中指出，出口限制將局限于7nm 及以下制程，側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，主要為 DUV 光刻機(jī) TWINSCAN NXT：2000i和 TWINSCAN NXT：2050i 兩款產(chǎn)品，而未被禁運(yùn)的 NXT 1980i 等設(shè)備仍可支持最低至10nm的芯片產(chǎn)。

換而言之，荷蘭實(shí)際實(shí)施的設(shè)備限制措施比美國2022年10月的芯片管制新規(guī)（管制新規(guī)禁運(yùn)美國 14nm 及以下設(shè)備），和日本2023年5月23日頒布的語焉不詳6大類23種高性能半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制更為寬松。

傳已導(dǎo)入產(chǎn)線DUV設(shè)備維修也需“許可”

在看似寬松的背后，荷蘭政府卻又在悄悄填補(bǔ)“漏洞”。據(jù)中國臺灣電子時報7月3日報道，荷蘭外貿(mào)大臣Liesje Schreinemacher日前受訪時還指出，除了管制尚未交貨的高端DUV系統(tǒng)，必須申請?jiān)S可外，對于已經(jīng)在客戶端導(dǎo)入生產(chǎn)、正在運(yùn)行的DUV設(shè)備，荷蘭企業(yè)在替客戶進(jìn)行維修之前，也必須向政府取得許可，方可放行。

荷蘭媒體NL Times的報道也指出，對于ASML在對涉及管制的機(jī)器維修維護(hù)等任務(wù)前，該公司還必須向荷蘭政府申請維護(hù)已導(dǎo)入使用機(jī)器的許可證。

2022年10月，拜登也對美國半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)也有類似的要求。

2023年6月29日，在上海舉行的SEMICON China 2023大會上，長江存儲董事長、代理CEO陳南翔曾就某些半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)不提供技術(shù)支持一事發(fā)表言論，他認(rèn)為假設(shè)企業(yè)依法合規(guī)買的設(shè)備拿不到或是無法使用，可以設(shè)一個時間內(nèi)，把設(shè)備在新的條件下回購，這樣才公平。

如今，荷蘭也依樣畫葫蘆來了這么一出，涉及ASML的先進(jìn)制程設(shè)備的訂單又該如何處理呢？

荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備新規(guī)已然透露答案，允許購買的DUV光刻機(jī)，設(shè)備維修可申請，想必當(dāng)中會有個審核，需查明產(chǎn)線的具體生產(chǎn)情況，比如是否涉及受管制的先進(jìn)制程生產(chǎn)；至于已經(jīng)不可購買，購買的想必也不會得到妥善維修。不過自2019年以來，大陸產(chǎn)線實(shí)際上不可從荷蘭獲得可生產(chǎn)7nm制程的光刻機(jī)。而已經(jīng)下了的訂單，據(jù)荷蘭媒體透露，ASML對已下訂、未交貨的高端DUV設(shè)備訂單的客戶提供了“轉(zhuǎn)單”服務(wù)，可換購成其它許可的半導(dǎo)體設(shè)備。

至于陳南翔先生說的“回購”可能發(fā)生嗎？大概率不。掌握半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)的海外國家們根本不在乎“市場公平”這一準(zhǔn)則，他們頒布一系列的條款已經(jīng)驗(yàn)證了這一點(diǎn)。更何況，企業(yè)失去自由交易權(quán)后，“回購”的產(chǎn)品，又還能賣給什么客戶呢？

參考資料：

中國臺灣電子時報《荷蘭堵死管制漏洞已裝機(jī)、未交貨高階DUV都列管》

招商電子《半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)動態(tài)點(diǎn)評：荷蘭公布半導(dǎo)體設(shè)備出口新規(guī)，加速國內(nèi)設(shè)備國產(chǎn)化進(jìn)程》

快科技《ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝》