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什么是FCVD?

08/15 08:37
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知識(shí)星球(星球名:芯片制造與封測技術(shù)社區(qū),星球號(hào):63559049)里的學(xué)員問:昨天在直播的時(shí)候有你說FCVD,我之前是沒有聽過這類的CVD,可以詳細(xì)介紹一下嗎?

FCVD是什么?

FCVD,全稱是Flowable Chemical Vapor Deposition,即流動(dòng)化學(xué)氣相沉積。結(jié)合了旋涂電介質(zhì) (SOD) 優(yōu)異的間隙填充性能和 CVD 的工藝穩(wěn)定性,用來制造線寬在20 納米以下的ILD(層間介電質(zhì))。

FCVD的原理

首先,F(xiàn)CVD采用的是遠(yuǎn)程等離子的技術(shù),關(guān)于遠(yuǎn)程等離子體,見前面的文章:為什么高端刻蝕設(shè)備都選用遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)?

沉積過程分為兩步:第一步是沉積,第二步是固化成氧化硅薄膜。

在沉積過程中,溫度比較低,被淀積的材料能夠以液態(tài)形式流動(dòng),填充狹小的空間。這與傳統(tǒng)的SOD工藝類似,但FCVD的材料是通過CVD工藝沉積的,而SOD則是通過旋涂的方法。關(guān)于SOD,見之前的文章:

旋涂絕緣介質(zhì)(SOD)是什么?

之后,在惰性氛圍的環(huán)境中,在650℃以下的溫度中進(jìn)行固化,得到固態(tài)的氧化硅薄膜。

FCVD的優(yōu)點(diǎn)

1,極高的填充能力,能夠填充深寬比為30:1的結(jié)構(gòu)2,低溫工藝,對(duì)于溫度敏感的芯片產(chǎn)品十分有利。3,薄膜的致密性很好。4,成本僅為SOD的一半

FCVD的應(yīng)用

3D NAND 閃存芯片

FCVD供應(yīng)商及型號(hào)?

AMAT,型號(hào):Producer? Eterna? FCVD?

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