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  • 濕法清洗設(shè)備公司太多了,得清洗一下了...
    半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的銷售額里差不多八成是前道設(shè)備的份額。我按照一般的行業(yè)共識(shí),把前道設(shè)備分成:光刻、涂膠顯影、CVD成膜、PVD成膜、其它成膜、干法、濕法、熱處理、CMP、離子注入和檢測(cè)量測(cè)11個(gè)大類(各家分類方法有差異,但基本區(qū)別不大)最近幾年以來(lái),晶圓制造設(shè)備一直是一級(jí)市場(chǎng)追逐的熱門賽道。直到最近,也經(jīng)常有投資人向我打聽(tīng)和咨詢各種前道設(shè)備的項(xiàng)目。
    濕法清洗設(shè)備公司太多了,得清洗一下了...
  • 2024 CSEAC:半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速,競(jìng)爭(zhēng)力在哪里?
    尊重知識(shí)產(chǎn)權(quán)和打造差異化競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)是中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當(dāng)前,低價(jià)競(jìng)爭(zhēng)導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙,它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力,阻礙了技術(shù)的迭代升級(jí)。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤(rùn)率,以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識(shí)產(chǎn)權(quán),也不利于企業(yè)的長(zhǎng)期發(fā)展。
    2024 CSEAC:半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化加速,競(jìng)爭(zhēng)力在哪里?
  • 為什么高端刻蝕設(shè)備都選用遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)?
    學(xué)員問(wèn):遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)是什么?有什么優(yōu)勢(shì)?許多高端,先進(jìn)的刻蝕,清洗機(jī)臺(tái)都會(huì)配置遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)。如Applied Materials Centura,Lam Research Kiyo都會(huì)用到RPS。RPS的原理是什么?

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