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東方晶源深耕電子束量測檢測核心技術(shù) “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機(jī)”

電子束量測檢測設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一，深度參與光刻環(huán)節(jié)、對制程節(jié)點(diǎn)敏感并且對最終產(chǎn)線良率起到至關(guān)重要的作用。其最為核心的模塊為電子光學(xué)系統(tǒng)（Electron?Optical?System，簡稱EOS），決定設(shè)備的成像精度和質(zhì)量，進(jìn)而決定設(shè)備的性能。作為電子束量測檢測領(lǐng)域的先行者、領(lǐng)跑者，東方晶源始終堅(jiān)持自主研發(fā)，不斷深化研發(fā)投入、加速技術(shù)創(chuàng)新步伐，致力于為客

與非網(wǎng)編輯

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08/21 07:17

半導(dǎo)體工藝電子束

lift off工藝為什么常用蒸發(fā)的方式鍍膜？

學(xué)員問：我觀察到晶圓廠中l(wèi)ift off工藝，鍍膜都是用的電子束蒸發(fā)的方式，很少有用磁控濺射的方式，為什么？

TOM聊芯片智造

1486

08/13 09:43

電子束 Lift off工藝

光刻技術(shù)，有了新選擇

光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

3786

08/08 10:50

光刻技術(shù) 電子束

替代EUV光刻機(jī)，有戲嗎？

除了積極跟蹤EUV光刻機(jī)的開發(fā)進(jìn)程，芯片廠商也在尋找能夠替代EUV光刻機(jī)的技術(shù)。被寄予厚望的不僅僅是電子束光刻技術(shù)。鎧俠力推NIL壓印工藝，聲稱有望在2025年實(shí)現(xiàn)5nm工藝；臺積電采用DUV光刻技術(shù)同樣實(shí)現(xiàn)了7nm工藝，并聲稱DUV光刻技術(shù)可以也可以實(shí)現(xiàn)5nm工藝。

中國電子報(bào)

2876

2022/09/30

EUV光刻機(jī) 電子束

電子束焊接原理

電子槍中的陰極由于直接或間接加熱而發(fā)射電子，該電子在高壓靜電場的加速下再通過電磁場的聚焦就可以形成能量密度極高的電子束，用此電子束去轟擊工件，巨大的動能轉(zhuǎn)化為熱能，使焊接處工件熔化，形成熔池，從而實(shí)現(xiàn)對工件的焊接。

cestbona

1610

2021/04/26

電子束

電子束

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