據(jù)韓媒報道,業(yè)內(nèi)人士透露,日本住友化學子公司東友精密化學向韓國半導體企業(yè)表示,由于原材料和勞動力成本上漲,擬提高氟化氪(KrF)和L線光刻膠價格,增幅因產(chǎn)品而異,約為10%-20%。
光刻膠是半導體制作的關(guān)鍵材料,能夠利用光化學反應,經(jīng)過曝光、 顯影等光刻工藝, 將所需微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上。半導體光刻膠品種眾多,包括EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、I/G線光刻膠。本次提價涉及的KrF光刻膠屬于高端光刻膠,是未來國內(nèi)外廠商的主要競爭市場之一。
長久以來,光刻膠市場主要由東京應化、杜邦、JSR、住友化學和DONGJIM等幾大公司把持,尤其是在半導體光刻膠領(lǐng)域,壟斷程度更高。
據(jù)悉,光刻膠產(chǎn)業(yè)專業(yè)化和精細化程度非常高,光刻膠的研發(fā)是一個不斷進行配方調(diào)試的過程,配方研發(fā)是通過成百上千的樹脂、光酸和添加劑的排列組合嘗試出來的,且難以通過現(xiàn)有產(chǎn)品反向解構(gòu)出其配方,配方是一個企業(yè)的核心商業(yè)機密。此外,從實驗室走出來,到穩(wěn)定量產(chǎn)也是行業(yè)的技術(shù)壁壘之一,需要穩(wěn)定的確保光刻膠的純度和性能。這也導致光刻膠的技術(shù)門檻非常高。
除了技術(shù)門檻之外,光刻膠還有極高的客戶壁壘。光刻膠廠商購買原材料之后,需要通過調(diào)配光刻驗證,得到大致實驗結(jié)果后再進行微調(diào),不斷重復試驗之后,才能達到客戶的性能要求,并適配產(chǎn)線,這個過程可能需要花費1至3年。這就導致光刻膠企業(yè)與客戶之間有很強的黏性,不愿導入新的供應商,主要在于過程繁瑣、耗時較長。
在技術(shù)和客戶雙重壁壘下,光刻膠企業(yè)就具有了極大話語權(quán)。對于此次光刻膠漲價,韓國半導體業(yè)界反應較大,但是無奈還是要接受漲價的事實。有代工行業(yè)業(yè)內(nèi)人士表示,“如果光刻膠價格上漲,代工廠別無選擇,只能將一部分成本轉(zhuǎn)嫁給客戶(無晶圓廠)”,并補充說,“東友精密化學光刻膠價格上漲可能會導致代工廠和整個無晶圓廠行業(yè)盈利能力惡化?!?/p>
近年來,我國一直加快國產(chǎn)光刻膠替代步伐。就現(xiàn)狀來看,我國光刻膠供應鏈依舊存在著較大的不穩(wěn)定現(xiàn)象,G/I線國產(chǎn)化率為10%,高端的KrF、ArF 國產(chǎn)化率不足5%。
我國近年來也涌現(xiàn)了一批光刻膠本土企業(yè),努力打破國外技術(shù)的封鎖。比如彤程新材已經(jīng)完成比較高端的半導體ArF光刻膠部分型號的開發(fā);瑞聯(lián)新材EUV光刻膠單體產(chǎn)品已通過客戶驗證;晶瑞電材則能夠提供紫外寬譜及部分g線、i線、KrF光刻膠等產(chǎn)品,產(chǎn)品系列較為豐富;徐州博康擁有ArF/KrF光刻膠單體、ArF/KrF光刻膠、G線/I線光刻膠、電子束光刻膠等產(chǎn)品系列,光刻膠數(shù)量處于國內(nèi)領(lǐng)先;以及近日剛剛登陸科創(chuàng)板的艾森股份,其成功研發(fā)先進封裝用i線厚膜負性光刻膠和OLED陣列制造用正性光刻膠,一舉打破國外企業(yè)壟斷,為國內(nèi)唯一量產(chǎn)供應商。
總而言之,從國內(nèi)光刻膠廠商進展進度來看,目前能實現(xiàn)量產(chǎn)的主要還是在G/I線光刻膠領(lǐng)域,但在KrF領(lǐng)域,僅少數(shù)研發(fā)進度領(lǐng)先企業(yè)實現(xiàn)小批量應用。高端ArF光刻膠領(lǐng)域,國產(chǎn)企業(yè)基本都還在研發(fā)、驗證階段。至于EUV光刻膠,則無從談起。在更為關(guān)注國內(nèi)半導體供應鏈安全的大環(huán)境下,我國產(chǎn)業(yè)鏈上下游將更為主動或被動的快速導入國產(chǎn)光刻膠,國內(nèi)相關(guān)企業(yè)將迎來光刻膠國產(chǎn)替代良機。