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ASML的EUV光刻機型號匯總

07/28 09:25
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上期文章中,我們列舉了ASML的G線,i線光刻機型號,見文章:ASML的光刻機型號匯總(上)

本期,我們要羅列下ASML的EUV光刻機的型號及主要技術(shù)參數(shù)。

ASML公司的EUV介紹極紫外光刻 (EUV) 技術(shù)使用波長為13.5納米的光。高能激光聚焦在熔融錫的微小液滴上,產(chǎn)生等離子體并發(fā)射出EUV光。錫滴的溫度可達到 220,000 攝氏度——是太陽平均表面溫度的 40 倍。

然后,光線通過蔡司鏡反射到晶圓表面,從而在晶圓上呈現(xiàn)出芯片的設(shè)計的圖案。截至 2022 年,ASML 已出貨約 140 臺 EUV 系統(tǒng),而且它是唯一一家制造EUV的公司。

ASML 最暢銷的 EUV 產(chǎn)品是 TWINSCAN NXE:3600D,其售價高達 2 億美元。這臺光刻機約180噸,卡車大小的體積,需要用三架波音 747運輸。ASML的EUV光刻機主要是TWINSCAN NXE,TWINSCAN EXE系列,見下表:

下期我們會總結(jié)ASML公司DUV光刻機型號。

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