光刻膠的旋涂曲線受那些因素影響？

知識星球（星球名：芯片制造與封測技術社區(qū)，星球號：63559049）里的學員問：聽光刻的老師傅說，光刻膠的旋涂一般會遵循特定的旋涂曲線規(guī)律，可以介紹下旋涂曲線的相關知識嗎？

什么是旋涂曲線？

如上圖，是AZ P4000系列光刻膠的旋涂曲線。旋涂曲線是描述光刻膠在旋涂過程中，膜厚度隨旋轉速度變化的關系曲線。通過調整旋涂速度，可以控制最終沉積在基片上的光刻膠膜厚度。通常來說，旋涂速度越快，沉積的膜厚度越薄，反之亦然。一般來說，不同的光刻膠旋涂曲線是不一樣的。

影響光刻膠膜厚的因素有哪些？

1，旋涂速度，較高的旋涂速度旋的膠更薄，低速則會導致較厚的膜。

膜厚度與旋轉速度的平方根成反比。

2，光刻膠的種類與固含量，就像人有高矮胖瘦，光刻膠也有稠有稀。固含量高，膠稠，相同轉速下的厚度更厚。

3，濕度，溫度，這兩個主要影響光刻機在旋涂中的蒸發(fā)速度。

4，機臺構造。比如加蓋與不加蓋，以及蓋子距離旋轉臺的體積等，對光刻膠的厚度具有巨大影響。

如何確定光刻膠旋涂曲線？

1，供應商給

2，自己測供應商給的只是在理想狀態(tài)下，不太精確，但是能得到大概趨勢?？梢葬槍ψ约旱那闆r，再對具體的旋涂曲線進行確定。

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