與非網(wǎng) 10 月 15 日訊,臺積電今年資本支出維持在 110 億美元高標(biāo),市場預(yù)期將聚焦 5 奈米大投資計劃,包括 Fab 18 廠第一期于明年 3 月之后進(jìn)入量產(chǎn),第二期及第三期產(chǎn)能建置會在明、后兩年完成并投入量產(chǎn),2022 年全產(chǎn)能投片下 5 納米晶圓年產(chǎn)能將逾 100 萬片規(guī)模。
設(shè)備業(yè)者推估臺積電 2020 年資本支出將上看 120~130 億美元,最主要投資項目是 5 納米極紫外光(EUV)產(chǎn)能建置,且 2021 年資本支出將因 Fab 18 廠 3 納米項目啟動而持續(xù)提升。
法人看好包括廠務(wù)工程廠漢唐、再生晶圓廠昇陽半及中砂、EUV 光罩盒廠家登、晶圓測試卡廠精測、硅晶圓廠環(huán)球晶、檢測服務(wù)廠宜特及閎康等臺積電大聯(lián)盟伙伴直接受惠。
臺積電 5 納米可說是集技術(shù)之大成。其 7 納米加強版(N7+)已採用 EUV 微影技術(shù)量產(chǎn),因已走過新技術(shù)學(xué)習(xí)曲線,5 納米導(dǎo)入 EUV 速度加快且良率提升符合預(yù)期。與 7 奈米制程相較,5 納米晶片密度增加 80%,在同一運算效能下可降低 15%功耗,在同一功耗下可提升 30%運算效能。而且,5 納米也首度采用極低臨界電壓(ELVT)電晶體的超低功耗設(shè)計,在 ELVT 運算下仍可提升 25%運算效能。
再者,臺積電會在 5 納米量產(chǎn)后一年推出 5 納米加強版(N5+),與 5 納米制程相較,在同一功耗下可再提升 7%運算效能,或在同一運算效能下可再降低 15%功耗。N5+制程將在 2020 年第一季開始試產(chǎn),2021 年進(jìn)入量產(chǎn)。
臺積電亦會在 5 納米制程世代,搭配推出 3D 芯片封裝制程,以因應(yīng)客戶在高效能運算及 5G 等應(yīng)用需求,其中包括相同晶片尺寸及製程的晶圓堆疊晶圓封裝、芯片堆疊在晶圓上的系統(tǒng)整合單芯片封裝等兩大主軸。業(yè)界看好臺積電 3D 芯片堆疊封裝方案,能夠整合多個非常鄰近的異構(gòu)小芯片并提供更佳的系統(tǒng)效能。
據(jù)法人推測,臺積電將 5 納米是 7 納米之后重大節(jié)點,在芯片密度、運算效能、降低功耗等各方面提升均有顯著效益,包括蘋果、華為海思、超微、賽靈思(Xilinx)、英偉達(dá)(NVIDIA)、博通等大客戶都會委由臺積電量產(chǎn) 5 納米芯片或處理器,至于高通 5 納米訂單預(yù)期也將重回臺積電投片。
從今年來看,7nm 制程是臺積電營收創(chuàng)下歷史新高的最大動力,包括蘋果、華為海思等頂級大廠均大批量給 7nm 下訂單,目前已生產(chǎn)超過 100 萬片 12 寸晶圓,無論是技術(shù)還是產(chǎn)能都位居全球領(lǐng)先。
劉德音表示,客戶在 AI 和 5G 等方面的需求很強勁,推動半導(dǎo)體工藝發(fā)展的重要動力不再是微縮晶體管那么簡單,在今天已經(jīng)有更多的推動因素,比如 3D IC、云端設(shè)計等,未來更加應(yīng)該以工藝密度、運算能力為發(fā)展的指標(biāo),臺積電的目的是釋放半導(dǎo)體的創(chuàng)新能力。
臺積電預(yù)計,5nm 制程已經(jīng)走出研發(fā)階段,將在明年三月份導(dǎo)入量產(chǎn),而且將是產(chǎn)能快速擴張且創(chuàng)下記錄的一年。
臺積電研發(fā)副總經(jīng)理黃漢森表示,臺積電 5nm 制程擁有業(yè)界最好的性能和最高的電晶體密度,且大量采用 EUV 技術(shù),整個生態(tài)系統(tǒng)已經(jīng)完備,進(jìn)入量產(chǎn)不存在障礙。
臺積電成立于 1987 年,是全球最大的晶圓代工半導(dǎo)體制造廠,客戶包括蘋果、高通等。其總部位于中國臺灣新竹的新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)。